顯微分光膜厚儀是一種高精度的測量儀器,主要用于測量各種薄膜、晶片、光學(xué)材料和多層膜的厚度和光學(xué)常數(shù)。它通過顯微光譜法在微小區(qū)域內(nèi)進行測量,能夠?qū)崿F(xiàn)非破壞性和非接觸式的測量,適用于科研和工業(yè)生產(chǎn)等多個領(lǐng)域。
顯微分光膜厚儀是一種結(jié)合顯微鏡與分光光度技術(shù)的高精度薄膜厚度測量儀器,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜、材料科學(xué)及生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。其核心原理基于光的干涉效應(yīng)或反射/透射光譜分析,通過測量光與薄膜相互作用后的光譜變化,實現(xiàn)納米級厚度的非接觸、無損檢測。
工作原理
顯微分光膜厚儀的工作原理基于光的干涉和分光原理。當光線照射到薄膜表面時,會發(fā)生反射和透射現(xiàn)象,這些光線在薄膜的前后表面之間多次反射,形成干涉條紋。通過分光技術(shù)將這些干涉條紋分解為不同波長的光譜,并測量其強度分布,就可以計算出薄膜的厚度、折射率和消光系數(shù)等參數(shù)。
操作注意事項
樣品準備:清潔表面,避免指紋或殘留物干擾。
基線校準:使用裸基底或標準膜進行光譜背景扣除。
波長選擇:根據(jù)材料特點優(yōu)化測量波段(如避開強吸收峰)。
環(huán)境控制:防震、恒溫、除濕,減少外界干擾。
顯微分光膜厚儀作為一種精密的測量設(shè)備,在薄膜材料研究領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用。隨著科技的不斷進步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展,其性能也在不斷提高和完善。